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《强激光与粒子束》 2011年06期
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用于光束匀滑的连续相位板近场均匀性

温圣林  侯晶  杨春林  颜浩  马平  周礼书  
【摘要】:为降低高功率激光系统中连续相位板(CPP)后续元件的强激光损伤风险,综合考虑入射光强调制、干涉及衍射作用等多种影响因素,建立了CPP近场计算分析模型,模拟和分析了这些因素对CPP后的近场均匀性的影响。理论分析结果表明:CPP后的光束近场均匀性主要受入射光调制、CPP表面剩余反射率和衍射传输距离的影响;当入射光束质量较差时,CPP后的近场均匀性主要由入射光束质量决定,CPP剩余反射率和衍射传输距离对近场均匀性影响相对较小;但当光束质量比较理想时,干涉和衍射作用会破坏CPP的近场均匀性,衍射传输距离影响尤为突出。
【作者单位】成都精密光学工程研究中心;
【分类号】:O436.1

【参考文献】
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【同被引文献】
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【二级参考文献】
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