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《南京大学学报(自然科学版)》 2003年04期
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ZnO薄膜的粉靶溅射沉积

刘天柱  Kiyotaka Wasa  张淑仪  水修基  陈培狄  宋凤麒  王广厚  
【摘要】:氧化锌是一种重要的压电与光电材料,用粉靶代替常规的固体陶瓷靶溅射沉积ZnO薄膜,对基底的加热温度、溅射气压和氧气的混合比率等沉积条件对氧化锌薄膜特性的影响进行了研究,主要对沉积在玻璃基片上的ZnO薄膜进行了X-射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)以及台阶仪的测量和分析比较,用粉靶溅射的ZnO薄膜具有很好的C轴长相和很窄的衍射峰半宽(0.2°~0.27°)。因为ZnO膜在C轴方向有很强的压电性,从而也说明了用粉靶溅射的ZnO薄膜具有很好的压电特性。分析和测量结果显示用粉靶溅射ZnO薄膜的最佳条件是:(1)基片加热温度为300~400℃。(2)氧气的混合含量为0.5~0.8.(3)溅射气压为1~2 Pa。得出了利用粉靶溅射制备的ZnO薄膜与用陶瓷靶制备同样具有很好的性能。

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【引证文献】
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中国硕士学位论文全文数据库 前4条
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【参考文献】
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【共引文献】
中国期刊全文数据库 前9条
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中国硕士学位论文全文数据库 前10条
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【同被引文献】
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中国博士学位论文全文数据库 前1条
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【二级引证文献】
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3 刘增机;再生纤维素基底上氟碳膜的形貌、结构与性能研究[D];青岛大学;2011年
【二级参考文献】
中国期刊全文数据库 前2条
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【相似文献】
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4 陈玉凤,温战华,王立,戴江南,方文卿,江风益;退火对常压MOCVD法生长的高结晶性能ZnO薄膜发光特性的影响[J];发光学报;2005年05期
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8 沈伟;彭德全;沈晓丹;;先进无机材料表面的金属化——ZnO薄膜技术[A];2001年全国电子电镀年会论文集[C];2001年
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中国重要报纸全文数据库 前10条
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3 古月;艾利·丹尼森公司推出多用途高光白色PP薄膜[N];中国包装报;2009年
4 本报记者 那罡;为苏州昆岭薄膜增添绿色动力[N];中国计算机报;2010年
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6 吕军锋;薄膜表面极性火焰处理技术的原理及其特点[N];中国包装报;2009年
7 张图;美国Pentapharm敏感药物包装薄膜生产线扩产[N];中国包装报;2009年
8 魏明;薄膜回收篇[N];中国包装报;2011年
9 记者 徐雯雯;义和科技:三方联手打造“黄金薄膜”[N];莱芜日报;2011年
10 黄英;首条端对端薄膜硅电池生产线成功安装[N];中国企业报;2009年
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