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《科学通报》 2005年01期
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超光滑光学表面的磁性类Bingham流体确定性抛光

程灏波  冯之敬  王英伟  张云  郭占社  余景池  
【摘要】:利用磁性抛光介质在梯度磁场作用下呈现出具有粘塑性的类Bingham流体的特点,实现了对具有超光滑表面精度要求(表面粗糙度一般低于0.5nm)的光学元件,特别是应用于接近衍射极限的短波段光学元件的确定性抛光.磁流体与被抛光工件间的相对运动导致工件表面抛光区域产生较强的剪切力,从而去除工件表面材料.通过控制梯度磁场的敏感参量如磁场强度、磁极间距等获得磁场中类Bingham流体形成柔性抛光带的形状及工作状态的实时响应.去除函数和去除率曲线反映了磁流体抛光符合经典Preston抛光模型,并突出体现确定性去除这一特点.磁流体抛光全过程中去除函数向外周呈稳定的高斯分布状光滑渐变化趋势.抛光结果表明,配制成

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【参考文献】
中国期刊全文数据库 前1条
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【共引文献】
中国期刊全文数据库 前10条
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中国重要会议论文全文数据库 前3条
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中国硕士学位论文全文数据库 前10条
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中国期刊全文数据库 前2条
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【相似文献】
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中国重要报纸全文数据库 前3条
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中国硕士学位论文全文数据库 前6条
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