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《科学通报》 2001年13期
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超薄坡莫合金薄膜

于广华  赵洪辰  朱逢吾  
【摘要】:基于辉光放电原理在超高本底真空下制备了 Ni81Fe19(12nm)超薄薄膜,其各向异性磁电阻(AMR)变化率达到 1.2%,而矫顽力却只有127 A/m.同较低本底真空下制备的 Ni81Fe19薄膜进行结构比较表明:超高本底真空下制备的Ni81Fe19薄膜表面光滑、平整、起伏小,薄膜致密,结构缺陷较少;而较低本底真空下制备的Ni81Fe19薄膜表面粗糙、起伏大,薄膜较疏松、不均匀,结构缺陷较多.

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【参考文献】
中国期刊全文数据库 前1条
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【共引文献】
中国期刊全文数据库 前10条
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中国博士学位论文全文数据库 前10条
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中国硕士学位论文全文数据库 前10条
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【同被引文献】
中国期刊全文数据库 前10条
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【相似文献】
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中国重要会议论文全文数据库 前10条
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中国博士学位论文全文数据库 前10条
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6 蔡世军;天然石墨电极的成型性能与抗氧化研究[D];中国海洋大学;2008年
7 秋珊珊;V(Mo,W)-Cu(Ag)-S簇合物的合成及其三阶非线性光学性质的研究[D];南京理工大学;2005年
8 陆海鹏;Fe-N薄膜的结构与磁性能研究[D];电子科技大学;2005年
9 陈红;纳米橡胶增韧尼龙1010的制备与表征[D];郑州大学;2005年
10 汪志芬;木薯淀粉/天然橡胶复合材料的研究[D];华南热带农业大学;2006年
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