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《科技通报》 1995年01期
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低压等离子体结合热解法制备金刚石膜

庞国锋  石成儒  韩惠雯  
【摘要】:金刚石膜具有与天然金刚石相似的优异特性,预计会有十分广阔的应用前景.本文介绍了一种新颖的金刚石膜生长技术─—强流电子增强化学气相沉积法(IECVD),它结合了传统的热丝法和等离子体法各自的优点,成为一种具有较高生长速率,能够制备大面积均匀金刚石膜的技术.对用这种方法制备的金刚石膜进行了喇曼、扫描电镜和X-Ray衍射分析,并对这项技术的优点作了阐述.
【作者单位】杭州大学特种材料研究所
【基金】:国家自然科学基金,浙江省自然科学基金
【分类号】:O484.1

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