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《材料热处理学报》 2009年04期
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Ni-W-P/CeO_2-SiO_2纳米复合薄膜的高温氧化动力学特征

王军丽  徐瑞东  胡双丽  
【摘要】:脉冲电沉积制备了Ni,Ni-P,Ni-W-P合金薄膜和Ni-W-P/CeO2-SiO2纳米复合薄膜,研究了薄膜材料的高温氧化动力学特征。结果表明:在100~800℃范围内氧化1h时,纳米复合薄膜氧化增重率与氧化温度的氧化动力学曲线近似符合抛物线的递增规律;在300℃下氧化1~5h时,氧化增重率与氧化时间的氧化动力学曲线近似符合直线的递增规律;氧化温度低于400℃时,纳米复合薄膜的基质金属晶粒长大不明显;氧化温度提高到800℃时,纳米复合薄膜表面的氧化膜连续致密,没有裂纹、剥离和脱落,而Ni-W-P合金薄膜表面的氧化膜已变得疏松,甚至产生了微裂纹和针孔;CeO2和SiO2纳米颗粒在Ni-W-P基质金属中的嵌入,在提高纳米复合薄膜组织结构致密性的同时,也明显提高了抗高温氧化性能。

【参考文献】
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