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《中国激光》 2013年12期
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利用海森堡不确定性原理研究全反射X射线光学器件的焦斑极限(英文)

孙天希  刘志国  彭松  孙蔚渊  丁训良  
【摘要】:全反射X射线光学器件在X射线显微技术中具有重要的应用,有关其焦斑极限的研究对该器件的设计者和使用者具有指导意义。利用海森堡不确定性原理研究了全反射X射线光学器件的焦斑极限。理论结果表明:全反射X射线光学器件的焦斑极限与器件的材料有关;利用镍金属、铅玻璃和硼硅酸盐玻璃制成的全反射X射线光学器件的焦斑极限分别为3.2、4.2和6.6nm。

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【参考文献】
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1 黄秋实;李浩川;朱京涛;王晓强;王占山;陈玲燕;唐永建;;Fabrication and characterization of sliced multilayer transmission grating for X-ray region[J];Chinese Optics Letters;2012年09期
2 穆宝忠;刘宏颖;金慧俊;杨夏军;王芳芳;李文彬;陈鸿;王占山;;Optimization of geometrical design of nested conical Wolter-I X-ray telescope[J];Chinese Optics Letters;2012年10期
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