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《化学反应工程与工艺》 2011年02期
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HP40合金抗结焦氧化膜的性能

袁霞光  
【摘要】:在低氧分压气氛下氧化HP40合金,在合金表面形成具有抑制催化结焦能力的氧化膜,并采用X射线能量色散谱(EDS)、X射线衍射(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)和扫描电子显微镜(SEM)分析氧化膜的元素成分、物相结构、表面和截面形貌,用热重天平分析氧化膜的增重规律,用结焦实验评价氧化膜的抗结焦性能。结果表明:经低氧分压处理后,在金属表面形成的氧化膜由表及里分为3层,分别为MnCr_2O_4尖晶石层、Cr_2O_3层和SiO_2层,氧化膜的厚度约为2μm,氧化温度为900℃时氧化膜的结焦抑制率可达到90%,氧化膜可有效抑制丝状催化焦炭的产生。
【作者单位】中国石油化工股份有限公司科技开发部;
【分类号】:TG174.4

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