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NiCrAlYSi涂层/DD6单晶高温合金界面再结晶和互扩散行为

姚锐  郭洪波  彭徽  宫声凯  
【摘要】:采用电子束物理气相沉积(EB-PVD)在单晶高温合金DD6基体上沉积NiCrAlYSi涂层。利用X射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)、能谱仪(EDS)以及透射电镜(TEM)等研究了高温扩散过程中NiCrAlYSi/DD6的界面再结晶和互扩散行为。研究结果表明合金表面喷砂处理后的涂层试样经1 323K真空热处理4h后,在涂层/合金基体界面出现了厚度约为7μm的胞状再结晶区;表面未喷砂处理的涂层试样经过50h后没有出现再结晶,经过75h后形成了厚度约为15μm的再结晶区。在大气中静态氧化500h后,表面未喷砂处理试样在涂层/合金界面形成了厚度约为28μm的再结晶区,同时在合金基体中形成了厚度约60μm、以针状拓扑密堆相(TCP)为主的二次反应区(SRZ),TCP中富含W、Re和Ta元素。

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