APCVD法SiH_4-NH_3-CO_2系统制备氧氮玻璃薄膜的研究
【摘要】：在６６０℃下以ＳｉＨ４－ＮＨ３－ＣＯ２作为反应气体利用常压ＣＶＤ（ＡＰＣＶＤ）设备沉积得到了氧氮玻璃薄膜．此温度比文献报道的ＡＰＣＶＤ法低２００℃以上，有效地降低了沉积温度．实验发现ＮＨ３中水汽对沉积反应的显著影响．初步研究表明：运用ＡＰＣＶＤ法将这种薄膜应用于普通钠钙硅玻璃的表面改性，可使镀膜玻璃的表面硬度比退火玻璃提高了５０％以上
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