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宽视场角1/4波片装调和加工误差对偏振检测的影响

董娟  李艳秋  
【摘要】:波片通常用于测量光学系统的偏振效应。对于大入射角的超高数值孔径(NA)成像系统,待测光不再平行于系统光轴,而是与系统光轴有较大夹角的圆锥形光束,所以在高NA的成像系统中使用的波片不是传统的两片式零级1/4波片,而是正负晶体组合的四片式宽视场角(WVA)1/4波片。分析了WVA 1/4波片的装调角度误差(绕成像系统光轴的旋转误差和垂直于系统光轴的倾斜误差)、晶体的厚度和光轴加工误差所引起的附加相位差。分析结果显示,在NA为1.35的光刻系统中,当四片式WVA 1/4波片的装调角度误差和单片晶体光轴加工误差均为±2°时,后者比前者所引起的附加相位差大10倍以上。分析了WVA 1/4波片装调和加工误差引起的最大附加相位差对高NA光刻系统掩模面光偏振度(DOP)的影响。当WVA 1/4波片的附加相位差在±10°以内时,DOP的偏差可以控制在0.1%的范围内。

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