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《功能材料》 2011年S2期
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ITO薄膜的制备以及性能的研究

董科研  周明  王静静  吴小麟  高传玉  
【摘要】:在室温条件下通过直流磁控溅射法在普通玻璃基体上制备了光电性能优良的ITO薄膜。靶材为ITO陶瓷靶,其中In2O3与SnO2的质量比为9∶1。运用UV-2550紫外可见光光度计测量样品的透光率,采用SZT-2四探针测试仪测量样品表面的电阻率,用扫描电镜(SEM)对样品进行表征。研究了溅射压强、溅射功率等参数对薄膜光电性能的影响。研究表明,ITO薄膜的电阻率随着溅射功率的增大而减小,在溅射功率为110W时ITO薄膜的透光率有相对好的数值。溅射压强为1.0Pa时既能保持ITO薄膜低的电阻率又能保证高的透光率。

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【参考文献】
中国期刊全文数据库 前2条
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【共引文献】
中国期刊全文数据库 前5条
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中国硕士学位论文全文数据库 前1条
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【二级参考文献】
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