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《功能材料》 2010年08期
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磁场下镍电沉积层织构及表面形貌

刘志勇  孙孟良  范峰  彭麟  陈昌兆  高波  应利良  鲁玉明  蔡传兵  
【摘要】:研究了磁场作用下电沉积Ni金属膜的生长过程,磁场与电极表面夹角取35°。测试结果表明电流密度、基底织构和磁场对薄膜的织构和表面形貌均具有重要影响。随着电流密度的增加,薄膜的面外织构由(111)为主变为(200)为主,面内织构显著改善;晶粒尺寸随着电流密度的增加显著增大。在电流密度较小时,磁场的作用比较显著,使得面外(111)晶面取向受到抑制,(200)取向得到增强,面内织构也有一定的改善。同时,磁场使晶粒变小,形状更加规则,整体也更均匀。还对磁场、电流和基底的作用机制进行了分析。
【作者单位】上海大学物理系;
【基金】:国家自然科学青年基金资助项目(50702033)
【分类号】:O484.1

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