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《电子显微学报》 1997年04期
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Mo沉积成膜质量与磁控溅射条件间关系的STM研究

黎刚  杨海强  王俊  崔明启  
【摘要】:利用扫描遂道显微镜(STM)和X射线小角衍射(SAXRD)研究了几种经常使用的直流磁控溅射条件(包括:Ar气压强06Pa、溅射电流100mA、200mA及Ar气压强04Pa、溅射电流100mA三种条件)下所沉积的Mo单层薄膜的质量及相同溅射条件下不同溅射时间(35s到220s)对成膜质量的影响。实验的结果表明:降低Ar气压强提高溅射电流(即提高氩离子加速电压)都会使形成的薄膜更致密表面更光滑。相同条件下随沉积时间的增加,薄膜的晶粒线度随之增大,晶粒间界变得明显粗糙度变大。几乎所有的样品都观察到晶粒生长有明显的优先取向。用溅射沉积成膜的物理过程对以上结果作了解释
【作者单位】中科院高能所同步辐射实验室 中科院真空物理实验室
【基金】:国家自然科学基金
【分类号】:O484.5

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【引证文献】
中国期刊全文数据库 前1条
1 周志华,傅明喜,黄兴民,陆琼晔;磁控溅射工艺参数对不锈钢薄膜结合性能的影响[J];材料保护;2004年11期
中国重要会议论文全文数据库 前2条
1 郑桂波;李凤岩;周志强;孙云;李长健;;CIS (CIGS)太阳电池的背接触Mo衬底的研究[A];第八届全国光伏会议暨中日光伏论坛论文集[C];2004年
2 付光宗;杨丰帆;杨小红;廖克俊;刘高彬;;超薄铝膜的制备与透光率的研究[A];中国微米、纳米技术第七届学术会年会论文集(一)[C];2005年
【共引文献】
中国期刊全文数据库 前6条
1 刘艳红;张家良;王卫国;李建;刘东平;马腾才;;CH_4或CH_4+Ar介质阻挡放电中的离子能量和类金刚石膜制备[J];物理学报;2006年03期
2 许沭华,任兆杏,沈克明;射频偏置ECR-PECVD等离子体参数测量[J];核聚变与等离子体物理;2004年01期
3 胡征;等离子体化学基础[J];化工时刊;2000年08期
4 古忠云,马玉珍,李茂果;微波在高分子材料表面处理中的应用[J];粘接;1999年06期
5 王必本,党纯,徐幸梓;等离子体对低温定向生长碳纳米管的作用[J];微细加工技术;2005年03期
6 刘翔宇,赵来,许生,范垂祯,查良镇;磁控溅射镀膜设备中靶的优化设计[J];真空;2003年04期
中国重要会议论文全文数据库 前1条
1 岳蕾;谢芬艳;陈强;翁静;;射频等离子体聚合类聚乙烯氧抗菌功能材料的研究[A];第十一届全国包装工程学术会议论文集(一)[C];2007年
中国博士学位论文全文数据库 前7条
1 刘艳红;介质阻挡放电制备类金刚石膜的研究[D];大连理工大学;2007年
2 刘晓芳;PZT/聚合物基压电复合材料结构与性能研究[D];武汉理工大学;2005年
3 宋雪梅;化学气相沉积硅基薄膜的性能及机理研究[D];北京工业大学;2003年
4 司磊;低压反应离子镀设备关键技术研究[D];中国人民解放军国防科学技术大学;2000年
5 唐金兰;微波等离子推力器谐振腔的数值模拟与小推力测量实验研究[D];西北工业大学;2002年
6 于威;晶态氮化碳薄膜沉积及其生长机理研究[D];河北大学;2002年
7 孙铭山;外场作用下强化钢液脱氮、脱氧的研究[D];上海大学;2004年
中国硕士学位论文全文数据库 前10条
1 马兆侠;掺溴非晶碳氢梯度薄膜的制备[D];四川大学;2006年
2 张健;射频感应耦合氩等离子体的Langmuir探针和发射光谱诊断[D];大连理工大学;2006年
3 黄创军;以SiCl_4为气源用PECVD方法低温沉积多晶硅薄膜[D];汕头大学;2001年
4 俞波;硅基薄膜材料的发光特性[D];汕头大学;2002年
5 高菘;掺铒光波导薄膜的制备与特性研究[D];大连理工大学;2002年
6 刘维;CVD制备碳基宽带隙半导体材料及其特性研究[D];北京工业大学;2003年
7 庞华;连续和脉冲射频PCVD制备低表面能薄膜的研究[D];北京印刷学院;2004年
8 王国菊;CVD制备碳基材料及其特性研究[D];北京工业大学;2004年
9 罗飞;用激光沉积法在金刚石颗粒表面制备金属薄膜[D];华中科技大学;2004年
10 魏俊红;射频辉光放电SiCl_4/H_2等离子体的探针诊断[D];汕头大学;2005年
【同被引文献】
中国期刊全文数据库 前5条
1 孙云,王俊清,杜兆峰,舒保健,于刚,温国忠,周祯华,孙健,李长健,张丽珠;CIS和CIGS薄膜太阳电池的研究[J];太阳能学报;2001年02期
2 张加友,龚晓波,刘维一,薛玉明,李凤岩,周志强,孙云,李长健,孙钟林;金属预置层后硒化法制备的CuInSe_2薄膜结构特性研究[J];太阳能学报;2003年03期
3 杜昊,宫骏,刘艳梅,孙超,黄荣芳,闻立时;超薄Al膜可见、红外光区吸收率的尺寸效应[J];功能材料;2001年06期
4 白雪冬,黄荣芳,闻立时;超薄Al膜可见光吸收率的尺寸效应[J];金属学报;1998年09期
5 黄佳木,董建华;磁控溅射沉积透明导电薄膜的结构及光电特性研究[J];上海金属;2003年05期
【二级引证文献】
中国硕士学位论文全文数据库 前3条
1 熊炫;PTCR磁控溅射电极及性能研究[D];华中科技大学;2006年
2 杨维虎;常温下制备表面抗菌不锈钢的研究[D];四川大学;2006年
3 李士战;H13齿轮精锻模具失效分析与表面强化研究[D];江苏大学;2006年
【相似文献】
中国期刊全文数据库 前10条
1 朱琼瑞,章佩娴,张世宏;靶电流密度对射频溅射制备无掺杂a-Si:H薄膜特性的影响[J];中山大学学报(自然科学版);1983年04期
2 姜恩永,直江正彦,山中俊一;用对向靶溅射钡铁氧体垂直磁化薄膜[J];天津大学学报;1984年04期
3 姜恩永,直江正彦,山中俊一;对向靶型高速低温溅射法及氮化钛薄膜的溅射研究[J];天津大学学报;1985年03期
4 刘宜华,梅良模,栾开政,张爱蓉,郭贻诚;非晶态CoFeBMo薄膜的制备和性能[J];山东大学学报(理学版);1985年04期
5 陈树光,黎锡强;溅射GaAs薄膜的光学性质与有效介质近似[J];中山大学学报(自然科学版);1986年03期
6 平一梅,孙自强,樊江水,刘东;具有针孔结构的垂直型铌变厚微桥[J];西北大学学报(自然科学版);1987年01期
7 刘卫,陈祖耀,杨治平,钱逸泰,赵化桥,刘双怀,辛厚文,何振辉,张民健,方明虎,张其瑞;高频溅射法制备YBa_2Cu_3O_(7-δ)多晶薄膜及其超导电性[J];化学物理学报;1988年04期
8 王德新;刘宜华;梅良模;郭贻诚;;溅射参数对非晶态CoFeNiNbSiB软磁薄膜性质的影响[J];山东大学学报(理学版);1988年03期
9 师庆华;;具有溅射SrS:Ce薄膜的蓝-绿色TFEL器件[J];液晶与显示;1989年04期
10 陈慧娟,柴向东,魏诠,李铁津;利用角分辨XPS评价硬脂酸铜LB膜[J];高等学校化学学报;1991年11期
中国重要会议论文全文数据库 前7条
1 杨少延;柴春林;廖梅勇;刘志凯;姚振钰;秦复光;王占国;;GaN蓝光材料新型外延衬底ZnO/Si的低能O~+离子束辅助PLD法生长[A];2000年材料科学与工程新进展(下)——2000年中国材料研讨会论文集[C];2000年
2 杨少延;柴春林;刘志凯;廖梅勇;姚振钰;秦复光;王占国;;低能O~+离子束辅助PLD法外延生长ZnO薄膜[A];第一届全国纳米技术与应用学术会议论文集[C];2000年
3 魏光普;张志林;赵惠明;长友隆男;大本修;;溅射硫化锡薄膜性质研究[A];21世纪太阳能新技术——2003年中国太阳能学会学术年会论文集[C];2003年
4 王战;刘庆纲;匡登峰;米文博;白海力;胡小唐;;用于纳米光电子器件加工的纳米金属膜的制作[A];中国仪器仪表学会第五届青年学术会议论文集[C];2003年
5 饶凯;傅相锴;傅宏;饶小平;;TiO_2,MoO_3,PEO掺杂的四元钨酸溶胶的稳定性研究[A];第五届中国功能材料及其应用学术会议论文集Ⅲ[C];2004年
6 李建国;刘实;李依依;胡东平;季锡林;梅军;周德惠;;热丝化学气相沉积金刚石薄膜空间场的数值分析[A];科技、工程与经济社会协调发展——中国科协第五届青年学术年会论文集[C];2004年
7 陆胜天;李萍;刘诗嘉;朱龙源;龚海梅;;碲镉汞红外探测器的分步式阳极氧化新方法研究[A];2004全国图像传感器技术学术交流会议论文集[C];2004年
中国重要报纸全文数据库 前4条
1 记者 吴国文;“纳米”涂料 助威申奥[N];中国建设报;2000年
2 刘家聚;包装印刷工艺与油墨成膜质量的关系[N];中国包装报;2002年
3 常分;我国超分子有机薄膜研究获进展[N];科学时报;2002年
4 颜晓娟;纳米技术留在传导领域的足迹[N];中国知识产权报;2005年
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1 范翊;聚糖类脂衍生物仿生物膜分子识别功能特性的研究[D];中国科学院研究生院(长春光学精密机械与物理研究所);2003年
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1 路建军;PET基氟碳膜的表面形貌及结构研究[D];青岛大学;2002年
2 董刚;NiFeSiMoMn合金膜巨磁阻抗效应的研究[D];首都师范大学;2003年
3 孙银洁;PET基氟碳膜形貌、结构及性能研究[D];青岛大学;2003年
4 李娟;CVD法采用TEOS-O_3沉积二氧化硅膜[D];河北大学;2004年
5 刘琚生;涂料固化设备的改进设计[D];天津大学;2003年
6 华缜;p-CuSCN薄膜的电沉积法制备与性能研究[D];天津大学;2004年
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