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辐照对聚酰亚胺基板铜薄膜金属化TiN阻挡层的影响

刘杨秋  梁彤祥  倪晓军  付志强  
【摘要】:采用物理气相沉积方法在聚酰亚胺基板上沉积Cu薄膜,利用TiN阻挡Cu元素向聚酰亚胺基板内部扩散。研究了在60Co-g射线辐照条件下,TiN阻挡层的阻挡效果,扫描俄歇微探针谱图分析表明:TiN层可以有效地阻挡Cu元素向聚酰亚胺基板内的扩散。当照射剂量大于2105 Gy后,TiN失去阻挡Cu元素扩散的效果。

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1 刘杨秋,梁彤祥,倪晓军,付志强;辐照对聚酰亚胺基板铜薄膜金属化TiN阻挡层的影响[J];电子元件与材料;2002年12期
2 ;用于微型电源中的极薄微型磁心[J];金属功能材料;2003年04期
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