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《稀有金属材料与工程》 2011年S1期
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强磁场条件制备ZnO纳米线研究

申彩霞  李梅  刘伟  
【摘要】:采用真空蒸镀方法制备金属Zn膜,在不同磁场强度(0T-8T)条件下高温氧化金属Zn膜生长了ZnO纳米线,用扫描电子显微镜(SEM)观察了样品的表面形貌,用X射线衍射方法(XRD)研究了样品的晶体结构,分析表明磁场对ZnO纳米线的形貌有影响。用室温光致发光谱(PL)研究了ZnO纳米线的光谱性质,结果表明ZnO纳米线的绿光发射与制备样品时磁场强度相关。论文研究表明在磁场条件下制备的ZnO纳米线,其形貌和发光性质都受到制备条件的影响。
【作者单位】清华大学;
【基金】:中国博士后基金(20080440345)
【分类号】:TB383.1

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