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《材料科学与工程学报》 2008年04期
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磁控溅射Cu-W薄膜的组织与结构

王瑞  周灵平  汪明朴  朱家俊  李德意  李绍禄  
【摘要】:采用双靶磁控溅射共沉积方法制备Cu-W薄膜,其微观结构及形貌通过XRD、TEM和SEM方法测试,结果表明,Cu-W薄膜是由Cu固溶于W或W固溶于Cu的亚稳态固溶体组成,且随着W含量的增加,Cu-W薄膜依次形成面心立方fcc结构的Cu基亚稳固溶体f、cc和bcc结构固溶体的双相区以及体心立方bcc结构的W基亚稳固溶体,晶粒尺寸随溶质原子含量的增加而减小。这些亚稳固溶体的形成是由于溅射出的原子动能足以克服Cu、W固溶所需的混合热,以及溅射过程中粒子的纳米化和成膜过程中引入的大量缺陷造成的。

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【引证文献】
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1 张宏森;丁明惠;张丽丽;蒋保江;;溅射方式对NbN薄膜结构及热稳定性的影响[J];材料科学与工程学报;2010年03期
2 周铖;孙勇;郭中正;殷国祥;彭明军;;磁控溅射沉积Cu-W薄膜的特征及热处理的影响[J];材料导报;2011年06期
3 朱雪婷;孙勇;郭中正;吴大平;刘国涛;;磁控溅射沉积Cu-W薄膜的结构及性能[J];云南大学学报(自然科学版);2012年05期
中国博士学位论文全文数据库 前2条
1 徐静;磁控溅射SiO_2基LaB_6薄膜的制备工艺及性能[D];山东大学;2009年
2 赵晓华;单晶硅基LaB_6薄膜的磁控溅射制备工艺及生长机制[D];山东大学;2011年
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1 周铖;Cu-W、Cu-Mo非混溶合金均质薄膜的结构与性能研究[D];昆明理工大学;2011年
【参考文献】
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1 范毓殿,周志烽;薄膜溅射沉积过程中的原子喷丸效应[J];真空科学与技术;1996年04期
【共引文献】
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2 艾永平,周灵平,陈兴科,刘俊伟,李绍禄;Ar~+能量及低能轰击对离子溅射铜钨薄膜结构的影响[J];河南科技大学学报(自然科学版);2005年03期
3 蒋钊;陈学康;;薄膜的应力控制技术研究现状[J];真空科学与技术学报;2008年S1期
【同被引文献】
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2 邹璐,叶志镇;磁控溅射中生长参数对氧化锌薄膜性能的影响[J];半导体情报;2001年06期
3 宋登元,王永青,孙荣霞,宗晓萍,郭宝增;Ar气压对射频磁控溅射铝掺杂ZnO薄膜特性的影响[J];半导体学报;2002年10期
4 陆华,屈新萍,王光伟,茹国平,李炳宗;超薄W-Si-N作为铜与硅之间的扩散阻挡层[J];半导体学报;2003年06期
5 刘壮;林晶;孙智慧;高德;;磁控溅射陶瓷薄膜(SiO_x)阻隔性机理的研究[J];包装工程;2008年10期
6 沈伟,彭德全,沈晓丹;Al_2O_3陶瓷表面金属化[J];材料保护;2005年03期
7 郑树起,闵光辉,于化顺,韩建德,王维倜,张树玉;LaB_6功能陶瓷材料的研究现状[J];材料导报;2000年03期
8 卢庆亮;闵光辉;于化顺;;LaB_6单晶体制备方法的特点和进展[J];材料导报;2005年09期
9 刘心宇;江民红;周秀娟;成钧;王仲民;;Al掺杂ZnO薄膜的射频磁控溅射工艺与光电性能研究[J];材料工程;2008年10期
10 戴伟;张同俊;杨君友;孙荣幸;许聚良;;射频磁控溅射超硬TiB_2薄膜的T区结构特征[J];材料科学与工程学报;2008年05期
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1 王汉斌;许州;卢和平;邓仁培;杨肖;甘孔银;金晓;黎明;刘锡三;;单晶LaB_6热阴极直流发射特性[A];中国工程物理研究院科技年报[C];2005年
2 任雪勇;谢泉;杨吟野;肖清泉;杨创华;曾武贤;梁艳;;溅射功率对Ca_2Si薄膜性质的影响[A];第六届中国功能材料及其应用学术会议论文集(4)[C];2007年
3 孙兴林;姜宏伟;贾新峰;刘丽峰;郑鹉;王艾玲;;磁控溅射超薄金属膜在太赫兹波段的光学特性[A];第六届中国功能材料及其应用学术会议论文集(8)[C];2007年
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1 徐静;磁控溅射SiO_2基LaB_6薄膜的制备工艺及性能[D];山东大学;2009年
中国硕士学位论文全文数据库 前2条
1 梁丽梅;LaB_6纳米粉末及其复合薄膜的制备工艺及性能研究[D];山东大学;2009年
2 汪丹;SiO_2基体上直流磁控溅射LaB_6/ITO复合薄膜的性能研究[D];山东大学;2011年
【二级引证文献】
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1 刘国涛;孙勇;郭中正;吴大平;朱雪婷;;磁控溅射Cu-Nb和Cu-Mo薄膜结构与性能[J];材料导报;2012年06期
2 朱雪婷;孙勇;郭中正;吴大平;刘国涛;;磁控溅射沉积Cu-W薄膜的结构及性能[J];云南大学学报(自然科学版);2012年05期
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1 赵晓华;单晶硅基LaB_6薄膜的磁控溅射制备工艺及生长机制[D];山东大学;2011年
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1 汪丹;SiO_2基体上直流磁控溅射LaB_6/ITO复合薄膜的性能研究[D];山东大学;2011年
2 葛培林;非平衡磁控溅射离子镀沉积Cr-Me-N涂层高温承载能力研究[D];太原理工大学;2012年
【相似文献】
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1 陈秋云;赖新春;黄火根;罗丽珠;蒋春丽;谭世勇;;超高真空磁控溅射法沉积铀薄膜及其表面状态[J];材料保护;2009年12期
2 朱绍将,刘翔,彭巨擘,严磊,张鹏翔;氧气氛后退火对La_(0.67)Ca_(0.33)MnO_3-Ag薄膜性能的影响[J];贵金属;2003年04期
3 纪艳玲,范瑞麟;磁控溅射沉积NiCrAlY涂层中的氩及其对氧化行为的影响[J];真空科学与技术;1993年03期
4 王申伟;衣立新;苏梦蟾;陈恩光;王永生;;红外吸收光谱法研究磁控溅射沉积SiO_x非晶薄膜的过程[J];光谱学与光谱分析;2007年03期
5 易泰民;邢丕峰;唐永建;张林;郑凤成;谢军;李朝阳;杨蒙生;;磁控溅射制备金属铀膜[J];原子能科学技术;2010年07期
6 温培刚;颜悦;张官理;望咏林;;磁控溅射沉积工艺条件对薄膜厚度均匀性的影响[J];航空材料学报;2007年03期
7 宋应民;罗顺忠;龙兴贵;彭述明;安竹;刘宁;庞洪超;段艳敏;吴兴春;杨本福;郑思孝;;磁控溅射沉积含He纳米晶钛膜制备[J];原子能科学技术;2007年06期
8 尚魁平;冶艳;葛培林;江利;鲍明东;;磁控溅射沉积非晶碳膜微结构及电学性能[J];表面技术;2011年04期
9 范平,齐红基,易葵,叶敏,邵建达,范正修;离子束溅射沉积Co膜光学特性的尺寸效应研究[J];真空科学与技术;2004年02期
10 白秀琴,李健;负偏压对低温沉积TiN薄膜表面性能的影响[J];中国表面工程;2005年05期
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1 韩增虎;赖倩茜;田家万;李戈扬;;NbN薄膜的反应磁控溅射沉积[A];第十二届全国电子显微学会议论文集[C];2002年
2 鲜晓斌;吕学超;柏朝茂;李科学;伏晓国;唐凯;任大鹏;;铝上磁控溅射沉积铀薄膜[A];中国工程物理研究院科技年报(1999)[C];1999年
3 杨云志;冉均国;郑昌琼;;磁控溅射制备类金刚石膜生物材料的结构特征[A];第三届中国功能材料及其应用学术会议论文集[C];1998年
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6 程晓农;刘红飞;张志萍;屈展;;射频磁控溅射法制备Al_2(WO_4)_3薄膜[A];TFC'07全国薄膜技术学术研讨会论文摘要集[C];2007年
7 伍建华;望咏林;温培刚;张晓峰;;柔性基底上Al膜的低能离子束辅助磁控溅射沉积[A];TFC’09全国薄膜技术学术研讨会论文摘要集[C];2009年
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9 何延春;;DC磁控溅射沉积WO_3薄膜及其在航天器热控方面的应用[A];中国真空学会2006年学术会议论文摘要集[C];2006年
10 郭杰;王静宇;李振豪;;磁控溅射沉积PZT/Pt薄膜异质结构的研究[A];第八届真空技术应用学术年会论文集[C];2005年
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1 赵子东;建筑镀膜玻璃现状及发展趋势[N];中国建材报;2008年
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2 陈涛;Fe/Ti纳米多层薄膜界面反应机制研究[D];大连理工大学;2007年
3 马飞;低维金属晶体微结构与力学性能的变异性研究[D];西安交通大学;2008年
4 雷洁红;锂氢同位素化合物性质的理论研究及其薄膜的制备[D];中国工程物理研究院;2010年
5 王玉江;316L不锈钢表面载药微坑制备及机理研究[D];哈尔滨工业大学;2009年
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1 熊玉立;磁控溅射沉积固体电解质钛酸镧锂薄膜的研究[D];武汉理工大学;2010年
2 申开盛;高质量Cu(In,Ga)Se_2薄膜的低成本制备工艺研究[D];兰州大学;2011年
3 李海翼;磁控溅射沉积氮化铝薄膜及其光学性能的研究[D];南昌大学;2010年
4 郑愉;类金刚石薄膜过渡层结构设计及薄膜力学性能研究[D];兰州理工大学;2012年
5 李灿民;等离子增强磁控溅射沉积新型纳米复合涂层[D];合肥工业大学;2011年
6 郐晛;铝合金类金刚石多层薄膜表面改性及其机械性能研究[D];西南交通大学;2011年
7 卓红;阳极氧化法制备多孔氧化物模板及其应用[D];福建师范大学;2010年
8 张林州;类金刚石薄膜的分子动力学和第一性原理研究[D];燕山大学;2012年
9 冯佳涵;PMMA介质层铟锌氧化物薄膜晶体管的制备与研究[D];复旦大学;2011年
10 刘权利;多级罗茨泵转子的型线设计、加工及表面涂层研究[D];东北大学;2008年
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