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TiN/AlN纳米多层膜的研究

李戈扬  施晓蓉  吴亮  许俊华  戎咏华  张惠娟  
【摘要】:采用反应溅射法制备了TiN/AlN 纳米多层膜, 并通过XRD, HREM 和显微硬度计对多层膜的调制结构和力学性能进行了研究。结果表明: TiN/AlN 纳米多层膜有较好的调制结构。小调制周期时, AlN 调制层以FCC 结构在TiN 调制层上外延生长。调制周期增大,AlN 调制层中出现六方晶型。TiN/AlN 的显微硬度随调制周期的减小单调上升, 并在调制周期= 2nm 时达到最高值HK3293。硬度的增高极有可能是小调制周期时立方AlN 的形成所致

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