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《材料保护》 2003年11期
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Cu和Cu/Ti过渡层对金刚石薄膜附着力的影响

黄扬风  马志斌  汪建华  梅文明  
【摘要】: 研究了硬质合金基底上采用Cu和Cu/Ti作过渡层CVD金刚石薄膜的附着力。XRD研究了金刚石薄膜的成分和结构,激光Raman谱和洛氏硬度计评价了金刚石薄膜的质量和附着力。结果表明,在Cu过渡层中引入Ti,由于Ti向生长面的扩散,促进了金刚石的二次晶核,导致晶粒细化。在沉积初期,晶粒细化也提高了金刚石薄膜与基体表面的实际接触面积。微晶金刚石有利于提高薄膜的附着力和抗冲击韧性。

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【引证文献】
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中国硕士学位论文全文数据库 前2条
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【参考文献】
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中国硕士学位论文全文数据库 前10条
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【同被引文献】
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【二级引证文献】
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中国硕士学位论文全文数据库 前3条
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【二级参考文献】
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【相似文献】
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1 宋慧瑾;鄢强;朱晓东;;B-Si-C-N系耐磨硬质膜的研究及应用进展[J];成都大学学报(自然科学版);2011年02期
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4 李正学;硼掺杂金刚石薄膜的制备、电化学性能及表面修饰研究[D];南京理工大学;2012年
5 石利忠;图形化纳米金刚石薄膜的制备及表面氢吸附的研究[D];河北大学;2009年
6 田孟昆;HFCVD金刚石薄膜/铜复合材料的生长工艺及结合性能研究[D];中南大学;2011年
7 杜丽丽;钛基掺硼金刚石薄膜电极的制备与电化学研究[D];吉林大学;2011年
8 程春晓;柔性衬底上金刚石薄膜的制备及其附着性能研究[D];郑州大学;2005年
9 刘刚;热丝化学气相沉积金刚石膜的研究[D];辽宁工程技术大学;2006年
10 周小荣;脉冲激光沉积钛膜的工艺与机理的研究[D];武汉理工大学;2007年
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