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《材料保护》 2003年05期
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低偏压下化学气相沉积金刚石薄膜的生长形貌研究

王传新  汪建华  马志斌  满卫东  王升高  康志成  吴素娟  
【摘要】:在微波等离子体化学气相沉积装置中,研究了偏压电压、甲烷浓度及沉积气压对金刚石晶形显露的影响。实验结果表明,生长时施加低的衬底偏压对金刚石的晶形显露有较大的影响,正的偏压有利于(111)面显露,负偏压有利于(100)面显露。在低偏压条件下生长时,低的沉积气压和甲烷浓度有利于(111)面显露;而高的气压和甲烷浓度有利于(100)面显露。过高的甲烷浓度将恶化金刚石质量,出现菜花状组织,无明显的晶面显露。

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【引证文献】
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10 李慧玲;金刚石薄膜低温合成的研究[D];河北大学;2000年
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