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《表面技术》 2005年05期
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工艺参数对Ti和NdFeB薄膜形态的影响

傅明喜  李岩  查燕青  宗华  卢永惠  
【摘要】:采用磁控溅射法制备Ti、NdFeB薄膜,并研究分析了工艺参数对Ti薄膜及NdFeB磁性薄膜表面形态的影响。试验结果表明,在一定的工艺条件下,通过对基片的加热控制可以获得单一方向生长的柱状晶结构薄膜。随着溅射功率的提高,NdFeB薄膜的沉积均匀性降低。

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【参考文献】
中国期刊全文数据库 前4条
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【共引文献】
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中国博士学位论文全文数据库 前10条
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【同被引文献】
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中国重要会议论文全文数据库 前1条
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【二级参考文献】
中国期刊全文数据库 前10条
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【相似文献】
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1 张中才,刘明海;BaTiO_3薄膜陶瓷的制备与性能测试[J];山西师范大学学报(自然科学版);1999年01期
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中国博士学位论文全文数据库 前3条
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