收藏本站
《北京科技大学学报》 2004年04期
收藏 | 投稿 | 手机打开
二维码
手机客户端打开本文

MgO/Si_3N_4复合材料表面致密层的形成机理

王林俊  孙加林  洪彦若  
【摘要】:研究发现Mgo/si3N4复合材料具有自阻碍氧化的性能,氧化时其表面能自发生成一层阻碍进一步氧化和提高抗侵蚀的致密层,添加Al,Si可以加厚、加宽致密层.在此基础上,研究了无添加剂和添加Al,Si的致密层的形成机理、组成和结构.提出转换氧分压为衡量气态氧化物SiO和Al2O的逸出标准,并确定气态的SiO或Al2O可以在氧化层内部生成以及由于它们在表面的再氧化和反应使表层内形成了致密层的机理.