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《半导体学报》 2005年05期
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(100)定向CVD金刚石薄膜的制备及其电学性能

苏青峰  夏义本  王林军  张明龙  楼燕燕  顾蓓蓓  史伟民  
【摘要】:报道了采用HFCVD制备金刚石薄膜的方法,以乙醇为碳源,氢气为载气,在适当的衬底温度下,合成出具有(100)晶面取向均匀生长的金刚石薄膜.SEM,XRD和Raman分析表明,所合成的金刚石薄膜是高质量的多晶(100)取向膜,厚度均匀、化学性能稳定,结构和性能与天然金刚石相接近.研究了室温下(100)取向金刚石薄膜的暗电流电压特性、稳态55Fe 5. 9keV X射线辐照下的响应和电容频率特性.结果表明,退火后(100)取向多晶金刚石薄膜具有较低的暗电流和较高的X射线响应;高频下,电容和介电损耗都很小且趋于稳定,不随频率的变化而变化.

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【引证文献】
中国博士学位论文全文数据库 前2条
1 苏青峰;CVD金刚石薄膜材料与辐射探测器件的研究[D];上海大学;2007年
2 廖晓明;新型金刚石薄膜辐射剂量计的基础研究及设计[D];四川大学;2006年
中国硕士学位论文全文数据库 前2条
1 陈真英;碳同素异构体微观结构的正电子研究[D];广西大学;2007年
2 李志峰;气相沉积中薄膜织构的形成与价电子结构的关系[D];北京化工大学;2007年
【参考文献】
中国期刊全文数据库 前3条
1 陈光华,蔡让岐,宋雪梅,贺德衍;多孔硅衬底微波CVD金刚石薄膜的制备及其场电子发射[J];半导体学报;2004年03期
2 胡晓君,李荣斌,沈荷生,戴永兵,何贤昶;低电阻率硼硫共掺杂金刚石薄膜的制备[J];半导体学报;2004年08期
3 程翔,陈朝,徐富春,刘铁林;掺氮类金刚石薄膜的电化学C-V研究[J];半导体学报;2004年10期
【共引文献】
中国期刊全文数据库 前5条
1 王锋;吴卫东;詹勇军;李俊;李盛印;曹林洪;葛芳芳;唐永建;孙卫国;;PLD方法制备的超硬非晶碳薄膜研究[J];强激光与粒子束;2007年10期
2 刘刚;刘忆;;热丝法CVD生长金刚石薄膜的简化工艺研究[J];半导体技术;2006年07期
3 楼燕燕,王林军,张明龙,顾蓓蓓,苏青峰,夏义本;Al_2O_3陶瓷上金刚石膜生长工艺优化及α粒子响应[J];半导体学报;2005年04期
4 王刚;林祖伦;王小菊;;场发射阵列阴极(FEA)在微波器件中的应用[J];电子器件;2007年01期
5 江南;;我国低温等离子体研究进展(Ⅱ)[J];物理;2006年03期
中国硕士学位论文全文数据库 前3条
1 王淑占;掺氮类金刚石(DLC:N)薄膜的制备及其性能研究[D];合肥工业大学;2007年
2 刘刚;热丝化学气相沉积金刚石膜的研究[D];辽宁工程技术大学;2006年
3 于海波;场发射冷阴极尖锥制备及其性能研究[D];电子科技大学;2006年
【同被引文献】
中国期刊全文数据库 前10条
1 蒋中伟,张竟敏,黄文浩;金刚石热化学抛光的机理研究[J];光学精密工程;2002年01期
2 唐壁玉,靳九成,李绍绿,周灵平,陈宗璋;CVD金刚石薄膜的应力研究[J];高压物理学报;1997年01期
3 苏青峰;夏义本;王林军;刘健敏;史伟民;;不同取向金刚石薄膜的红外椭圆偏振光谱特性研究[J];红外与毫米波学报;2006年02期
4 苏青峰;夏义本;王林军;史伟民;;复合抛光对CVD金刚石薄膜表面光洁度的改进研究[J];无机材料学报;2006年02期
5 苏青峰;刘健敏;王林军;史伟民;夏义本;;沉积工艺条件对金刚石薄膜红外椭偏光学性质的影响[J];物理学报;2006年10期
6 李志林,刘志林,孙振国;合金相结构因子和界面结合因子的计算方法及其在合金设计中的应用[J];金属学报;1999年07期
7 唐璧玉,杨国伟,任志昂,蔡孟秋;定向金刚石膜的合成及机理探索[J];半导体光电;2000年02期
8 杨国伟;金刚石薄膜的结构特征与电导率的相关性[J];半导体光电;1995年04期
9 黄元盛,刘正义,邱万奇;CVD金刚石薄膜衬底表面预处理技术进展[J];中国表面工程;2001年03期
10 苏革,黄荣芳,闻立时,成会明;采用热丝CVD法在多种基材上沉积金刚石薄膜[J];表面技术;1998年01期
中国博士学位论文全文数据库 前2条
1 周建;微波等离子体化学气相沉积法制备高质量金刚石膜研究[D];武汉理工大学;2002年
2 王兵;新型医用辐射剂量计金刚石膜的制备及性能研究[D];四川大学;2003年
中国硕士学位论文全文数据库 前2条
1 张进;金刚石薄膜制备工艺与电学、辐射响应性关系的研究[D];四川大学;2005年
2 程春晓;柔性衬底上金刚石薄膜的制备及其附着性能研究[D];郑州大学;2005年
【二级参考文献】
中国期刊全文数据库 前3条
1 陈光华,邵乐喜,贺德衍,刘小平;宽带隙薄膜材料场电子发射研究的背景、现状和问题[J];物理;2000年05期
2 蔡让岐,陈光华,宋雪梅,邢光建,冯贞健,贺德衍;纳米金刚石涂层上化学气相沉积金刚石薄膜的场电子发射[J];科学通报;2003年12期
3 杨小倩,胡晓君,沈荷生,张志明,李荣斌,何贤昶;CVD金刚石薄膜的掺硼研究[J];机械工程材料;2002年01期
【相似文献】
中国期刊全文数据库 前10条
1 杨国伟,毛友德;HFCVD法生长金刚石薄膜中的热丝技术[J];微细加工技术;1993年01期
2 杨国伟,毛友德;CVD金刚石薄膜的表面形貌研究[J];微细加工技术;1993年04期
3 杨国伟,毛友德;HFCVD方法沉积金刚石薄膜的生长研究[J];量子电子学报;1994年04期
4 刘德义,黄荣芳,于杰,闻立时,师昌绪;热丝法化学气相沉积大面积金刚石膜中辐射场和温度场的尺寸效应[J];材料研究学报;1996年03期
5 余明斌,马剑平,罗家骏,陈治明;在硅衬底上用HFCVD法生长的纳米SiC薄膜及其室温光致发光[J];半导体学报;2000年07期
6 邱东江;影响HFCVD金刚石晶核孕育期的几种因素[J];浙江大学学报(理学版);2000年03期
7 邱东江,吴惠桢,陈奶波,石成儒;RF-HFCVD生长高质量纳米金刚石薄膜[J];红外与毫米波学报;2002年03期
8 赵武,王雪文,邓周虎,张志勇;HFCVD法制备SiC薄膜工艺[J];西北大学学报(自然科学版);2002年03期
9 戚学贵,陈则韶,王冠中;优化HFCVD系统内衬底温度场的数值研究[J];真空科学与技术学报;2002年04期
10 王辉,宋航,金亿鑫,蒋红,缪国庆,李志明,赵海峰;HFCVD法制备SiC材料及室温光致发光[J];液晶与显示;2004年06期
中国重要会议论文全文数据库 前2条
1 李建国;胡东平;季锡林;胡文军;;热丝化学气相沉积金刚石薄膜空间场的数值分析[A];中国工程物理研究院科技年报——科技年报2003论文集[C];2003年
2 李建国;刘实;李依依;胡东平;季锡林;梅军;周德惠;;热丝化学气相沉积金刚石薄膜空间场的数值分析[A];科技、工程与经济社会协调发展——中国科协第五届青年学术年会论文集[C];2004年
中国博士学位论文全文数据库 前2条
1 王蜀霞;有机半导体LPPP发光性质及相关问题研究[D];重庆大学;2002年
2 郝天亮;热丝化学气相沉积制备超薄纳米金刚石膜研究[D];浙江大学;2006年
中国硕士学位论文全文数据库 前9条
1 肖金龙;CVD法生长碳纳米薄膜的研究[D];重庆大学;2002年
2 迟振华;化学气相沉积法制备MgB_2超导薄膜[D];燕山大学;2003年
3 郑志远;β-SiC薄膜制备及特性研究[D];河北大学;2002年
4 王国菊;CVD制备碳基材料及其特性研究[D];北京工业大学;2004年
5 柯立勤;HFCVD金刚石多晶膜的形貌、织构和孪晶的研究[D];中南大学;2004年
6 李海钧;一维碳纳米材料的制备及其特性研究[D];北京工业大学;2005年
7 王辉;HFCVD方法制备纳米SiC及其性质的研究[D];中国科学院研究生院(长春光学精密机械与物理研究所);2005年
8 孙晖;金刚石薄膜的生长及导热模型研究[D];西北大学;2006年
9 刘才龙;用于高压电学测量的金刚石膜微电路的集成[D];吉林大学;2007年
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