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《半导体学报》 1993年01期
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射频等离子体沉积类金刚石膜微结构的表征

杨伟毅  
【摘要】:利用傅里叶变换红外光谱仪和X射线激发的CKLL俄歇谱的一次微分表征了类金刚石(DLC)膜的微结构。指出在高离子能量轰击和低CH_4压强下所形成的DLC膜内以sp~3C-C键为主,并且sp~3碳成分随V/Pa~(1/2) 增加而增加,与退火温度从200℃ 到800℃无关,DLC膜具有好的热稳定性。DLC膜密度研究指出:膜密度与沉积参量和基底材料有关。
【作者单位】华东工学院光电技术系
【基金】:江苏省科委资助

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