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《微纳电子技术》 2009年03期
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从特征尺寸的缩小看光刻技术的发展

孙磊  戴庆元  乔高帅  吴日新  
【摘要】:从特征尺寸不断缩小变化的角度阐述了近代光刻技术发展的历程。指出90nm节点的主流光刻技术是193nmArF光刻;193nm浸入式光刻技术作为65nm和45nm节点的首选光刻技术,如果配合二次曝光技术,还可以扩展到32nm节点的应用,但成本会增加;如果特征尺寸缩小到22nm和16nm节点,EUV光刻、无掩模光刻以及纳米压印光刻等将成为未来发展的重要研究方向。在对各种光刻技术的原理、特点以及优缺点等分析对比的基础上,对未来主流光刻技术的发展做了一定的展望。
【作者单位】上海交通大学微纳科学技术研究院;
【分类号】:TN305.7

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【引证文献】
中国期刊全文数据库 前1条
1 邓常猛;耿永友;吴谊群;;激光光刻技术的研究与发展[J];红外与激光工程;2012年05期
中国硕士学位论文全文数据库 前3条
1 陈科钻;ASIC版图设计中的光刻缺陷研究[D];大连理工大学;2010年
2 张薇;多光束激光干涉图案的相移控制方法研究[D];长春理工大学;2011年
3 徐冉冉;投影光刻系统套刻对准技术的研究[D];南昌航空大学;2011年
【参考文献】
中国期刊全文数据库 前6条
1 翁寿松;90nm工艺及其相关技术[J];微纳电子技术;2003年04期
2 翁寿松;;45nm工艺与关键技术[J];微纳电子技术;2007年09期
3 翁寿松,缪彩琴;无掩模光刻技术的前景[J];电子工业专用设备;2005年08期
4 翁寿松;;65nm工艺及其设备[J];电子工业专用设备;2006年02期
5 翁寿松;2003年世界半导体设备市场分析[J];电子工业专用设备;2003年03期
6 丁玉成;刘红忠;卢秉恒;李涤尘;;下一代光刻技术——压印光刻[J];机械工程学报;2007年03期
【共引文献】
中国期刊全文数据库 前10条
1 翁寿松;300mm晶圆芯片制造技术的发展趋势[J];半导体技术;2004年01期
2 成立,王振宇,高平;DRAM芯片的最新研制进展与发展趋势[J];半导体技术;2004年04期
3 成立,李春明,王振宇,高平;IC产业链中的新技术应用与产业发展对策[J];半导体技术;2004年06期
4 成立,王振宇,景亮;SOC设计:IC产业链设计史上的重大革命[J];半导体技术;2004年12期
5 李若瑜,李斌,陈平,韩静;PMOSFET的NBTI效应[J];半导体技术;2005年05期
6 敬小成,姚若河,吴纬国;二氧化硅干法蚀刻参数的优化研究[J];半导体技术;2005年06期
7 成立,王振宇,朱漪云,刘合祥;制备纳米级ULSI的极紫外光刻技术[J];半导体技术;2005年09期
8 刘远;恩云飞;李斌;师谦;何玉娟;;先进工艺对MOS器件总剂量辐射效应的影响[J];半导体技术;2006年10期
9 胡剑;李刚炎;;基于MEMS的光开关技术研究[J];半导体技术;2007年04期
10 崔严匀;黎磊;李金华;;三层金属磁控溅射复合膜的XRD应力分析[J];半导体技术;2010年07期
中国重要会议论文全文数据库 前4条
1 胡伟;王人成;;基于提高靶材利用率的磁场与靶材刻蚀仿真研究现状[A];2010中国·重庆第七届表面工程技术学术论坛暨展览会论文集[C];2010年
2 龚勇清;刘智怀;高益庆;罗宁宁;李平贵;;一种二元光学元件阵列微芯模的工艺设计研究[A];第十七届十三省(市)光学学术年会暨“五省一市光学联合年会”论文集[C];2008年
3 许筱玲;唐洁影;;微加工硅悬臂梁在振动环境下的可靠性分析[A];中国微米、纳米技术第七届学术会年会论文集(一)[C];2005年
4 吴嘉丽;李仁锋;谭刚;李红;;LPCVD多晶硅薄膜制备技术[A];第六届全国表面工程学术会议暨首届青年表面工程学术论坛论文集[C];2006年
中国博士学位论文全文数据库 前10条
1 刘勇;高灵敏微悬臂梁探针设计制作及特性研究[D];中国科学技术大学;2011年
2 谢欣云;非单一SiO_2埋层的SOI新结构研究[D];中国科学院研究生院(上海微系统与信息技术研究所);2004年
3 栗大超;硅微机械扭转镜光致动器及其动态测试技术的研究[D];天津大学;2004年
4 刘锋;射频集成磁膜微电感的制备与性能研究[D];华中科技大学;2005年
5 张思杰;基于MEMS的消化道无线内窥镜的研究[D];重庆大学;2005年
6 邹绍芳;重金属电化学传感器及其在海水检测中应用的研究[D];浙江大学;2006年
7 张西慧;螯合剂在微电子工艺中减少硅表面重金属污染的应用研究[D];河北工业大学;2007年
8 贾孟军;硅微机械加速度开关技术研究[D];中国科学院研究生院(上海微系统与信息技术研究所);2007年
9 陈晓飞;光纤通信用高dI/dt集成半导体激光器驱动器研究[D];华中科技大学;2006年
10 郭小伟;SLM无掩模光刻技术的研究[D];四川大学;2007年
中国硕士学位论文全文数据库 前10条
1 饶玉芳;无掩模光刻系统的研究与设计[D];南昌航空大学;2010年
2 陈科钻;ASIC版图设计中的光刻缺陷研究[D];大连理工大学;2010年
3 范娅玲;闪存低温失效分析及不良筛选[D];苏州大学;2010年
4 许艺;大功率晶体管背面金属化的研究与优化设计[D];电子科技大学;2010年
5 于祝鹏;穿通结构三极管BV_(CEO)仿真分析及一致性提高研究[D];电子科技大学;2010年
6 刘波;基于L-Edit设计及MINITAB、JMP分析的晶体管(NPN型)大电流特性提升[D];电子科技大学;2010年
7 周金廷;基于Minitab磷扩结深一致性和均匀性数据分析及优化[D];电子科技大学;2010年
8 钟鑫;试验设计方法在微电子涂胶和刻蚀工艺优化中的应用研究[D];西安电子科技大学;2011年
9 沈萍;红外玻璃的模压制造研究[D];西安工业大学;2011年
10 曹胜军;高精度贴片机中相关技术的研究与实现[D];湖北工业大学;2011年
【同被引文献】
中国期刊全文数据库 前10条
1 来五星,轩建平,史铁林,杨叔子;微制造光刻工艺中光刻胶性能的比较[J];半导体技术;2004年11期
2 邱孟通;P.Choi;;极紫外光刻光源[J];半导体技术;2006年06期
3 陆梅君;金晓亮;毛智彪;梁强;;用在可制造性设计中的光刻规则检查[J];半导体技术;2006年12期
4 赵环昱;赵红卫;;用于光刻的EUV光源[J];半导体技术;2007年01期
5 冯伯儒,张锦,宗德蓉,蒋世磊,苏平,陈宝钦,陈芬;无掩模激光干涉光刻技术研究[J];微纳电子技术;2002年03期
6 周绍林;唐小萍;胡松;马平;陈旺富;杨勇;严伟;;纳米光刻对准方法及其原理[J];微纳电子技术;2008年04期
7 王阳元,康晋锋;硅集成电路光刻技术的发展与挑战[J];半导体学报;2002年03期
8 马胜利,葛利玲;电化学抛光机制研究与进展[J];表面技术;1998年04期
9 孙艳军;陈宇;曹子维;何显宗;;二元光学器件光刻掩模的设计与制作[J];长春理工大学学报(自然科学版);2007年04期
10 曹卫军;;迈克尔逊干涉实验中附加程差探究[J];昌吉学院学报;2007年03期
中国博士学位论文全文数据库 前3条
1 杨雄;极紫外投影光刻掩模若干问题研究[D];中国科学院研究生院(长春光学精密机械与物理研究所);2005年
2 李木军;接近式光刻仿真研究[D];中国科学技术大学;2007年
3 李晓光;紫外光刻仿真及掩模优化设计研究[D];中国科学技术大学;2007年
中国硕士学位论文全文数据库 前9条
1 马万里;IC制造工艺与光刻对准特性关系的研究[D];电子科技大学;2005年
2 梁友生;光刻机精细对准方法研究[D];四川大学;2005年
3 刘驰;DMD用于数字光刻成像研究[D];四川大学;2005年
4 李季;基于可制造性设计的物理设计规则的研究[D];浙江大学;2006年
5 潘意杰;基于光学邻近校正的双重图形研究[D];浙江大学;2008年
6 邱丽;光栅莫尔条纹干涉计量及其应用研究[D];重庆大学;2009年
7 唐海霞;基于可制造性设计研究及测试芯片设计[D];合肥工业大学;2009年
8 张翠玉;液晶移相器理论研究与应用研究[D];电子科技大学;2009年
9 刘兰娇;纳米位移测量中的干涉条纹技术研究[D];长春理工大学;2010年
【二级引证文献】
中国期刊全文数据库 前1条
1 胡传炘;胡家晖;黄继强;刘颖;沈忱;;纳秒激光与硅电池片光电转换效率变化及机理初步分析[J];红外与激光工程;2012年12期
中国硕士学位论文全文数据库 前1条
1 何其;时钟网格在ASIC设计中的应用[D];大连理工大学;2011年
【二级参考文献】
中国期刊全文数据库 前10条
1 翁寿松;ITRS 2001与芯片特征尺寸的缩小[J];微纳电子技术;2002年11期
2 翁寿松;铜互连及其相关工艺[J];微纳电子技术;2004年03期
3 翁寿松;65nm/45nm工艺及其相关技术[J];微纳电子技术;2004年07期
4 翁寿松;低k绝缘层及其设备[J];微纳电子技术;2005年02期
5 翁寿松;高k绝缘层研究动态[J];微纳电子技术;2005年05期
6 翁寿松;铜布线及其设备[J];电子工业专用设备;1999年03期
7 陈兴俊,胡松,姚汉民,刘业异;0.1μm线宽主流光刻设备—193nm(ArF)准分子激光光刻[J];电子工业专用设备;2002年01期
8 翁寿松;光学光刻的波前工程[J];电子工业专用设备;2003年05期
9 翁寿松;下一代光刻技术的设备[J];电子工业专用设备;2004年10期
10 翁寿松;193nm光刻技术延伸方法[J];电子工业专用设备;2004年11期
【相似文献】
中国期刊全文数据库 前10条
1 翁寿松,缪彩琴;无掩模光刻技术的前景[J];电子工业专用设备;2005年08期
2 蒋文波;胡松;;无掩模光刻技术研究[J];微细加工技术;2008年04期
3 冯伯儒,张锦,宗德蓉,蒋世磊,苏平,陈宝钦,陈芬;无掩模激光干涉光刻技术研究[J];微纳电子技术;2002年03期
4 佟军民,胡松,余国彬;下一代光刻技术[J];电子工业专用设备;2005年11期
5 佟军民;胡松;李爱敏;谢常青;;衍射光学元件在无掩模光刻中的应用[J];微细加工技术;2006年05期
6 沈易;吴翌旭;邢燕冰;周成刚;;多光束无掩模光刻系统[J];应用光学;2010年04期
7 徐晓东;汪辉;;亚65nm及以下节点的光刻技术[J];半导体技术;2007年11期
8 赵立新;严伟;王建;胡松;唐小萍;王肇志;王淑蓉;张正荣;张雨东;;数字灰度投影光刻技术[J];微纳电子技术;2009年03期
9 陈劲松;;用于衍射微光学元件制备的无掩模光刻技术[J];微纳电子技术;2006年07期
10 陈铭勇;郭小伟;马延琴;杜惊雷;;用DMD灰度曝光法产生连续面形微结构[J];微细加工技术;2006年06期
中国硕士学位论文全文数据库 前1条
1 钟希欢;动态分形数字掩模技术制作微透镜及其阵列的研究[D];南昌航空大学;2012年
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