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《微纳电子技术》 2003年Z1期
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利用紫外光刻技术进行SU8胶的研究

伊福廷  张菊芳  彭良强  韩勇  
【摘要】:SU 8光刻胶优异的性能在MEMS技术的发展重得到了广泛的应用 ,已经成为MEMS研究中必不可少的方法之一。SU 8光刻胶能够进行厚度达毫米的结构研究工作 ,另一方面SU 8结构具有很好的侧面垂直结构 ,通过控制工艺参数 ,能够获得满意的SU 8胶结构。SU 8光刻胶已应用于LIGA技术的标准化掩模制造工艺和一些器件的研究工作。在SU8胶研究过程中 ,克服了许多技术难题 ,使得这一技术能够应用到实际的需要中。

【引证文献】
中国硕士学位论文全文数据库 前2条
1 路亮;紫外激光曝光光刻SU-8胶的工艺研究[D];北京工业大学;2006年
2 陈长鸣;紫外固化型聚合物阵列波导光栅(AWG)器件的研制[D];吉林大学;2007年
【同被引文献】
中国期刊全文数据库 前7条
1 孔祥东,张玉林,宋会英;LIGA工艺的发展及应用[J];微纳电子技术;2004年05期
2 梁静秋,姚劲松;LIGA技术基础研究[J];光学精密工程;2000年01期
3 张帅,贾育秦;MEMS技术的研究现状和新进展[J];现代制造工程;2005年09期
4 孙燕华;沈明南;;微细加工技术与应用[J];机械制造与自动化;2005年06期
5 李远红,杨俊;AWG复用器的原理设计以及应用[J];光电子技术与信息;2004年03期
6 郑晓虎;朱荻;;模糊神经网络在UV-LIGA工艺优化中的应用[J];光学精密工程;2006年01期
7 瞿荣辉,赵浩,陈刚,陈高庭,张位在,方祖捷;基于光纤光栅的光子器件及其在波分复用系统中的应用[J];光子学报;1999年06期
中国硕士学位论文全文数据库 前1条
1 李雄;UV-LIGA技术光刻工艺的研究[D];华中科技大学;2004年
【相似文献】
中国期刊全文数据库 前6条
1 ;URE-2000系列i线深曝光光刻机[J];光电工程;2000年04期
2 伊福廷,张菊芳,彭良强,韩勇;利用紫外光刻技术进行SU8胶的研究[J];微纳电子技术;2003年Z1期
3 伊福廷,缪鹏,彭良强,张菊芳,韩勇;利用背面曝光技术制造大高宽比SU8结构的一种新方法(英文)[J];半导体学报;2004年01期
4 杨斌,刘景全,周广华,陈迪,张金娅,蔡炳初;基于SU-8胶转子的非接触压电微马达[J];微细加工技术;2005年01期
5 姜勇,陈文元,赵小林,丁桂甫,倪志萍,王志民;多层复杂结构准LIGA一体化加工工艺的研究[J];微细加工技术;2005年01期
6 罗怡,褚德南,娄志峰,刘冲,王立鼎;电沉积技术制作高聚物微流控芯片模具[J];电化学;2005年02期
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