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《微纳电子技术》 2002年05期
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质子LIGA工艺的探讨

彭良强  徐韬光  韩勇  伊福廷  张菊芳  
【摘要】:提出采用掩模法的质子LIGA方法,即利用厚胶光刻产生掩模,然后进行质子束深度刻蚀、显影获得微结构。根据TRIM96程序进行模拟计算,该方法可以获得深度达数毫米、深宽比为30以上的微结构。利用通常的LIGA工艺制备了质子束深度刻蚀的掩模。在高能所35MeV质子加速器上进行曝光试验,结果表明,采用PMMA光刻胶具有足够的灵敏度。

【引证文献】
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1 李伟;高g值硅微加速度计的结构设计与分析[D];南京理工大学;2005年
【同被引文献】
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9 唐世洪,张克梅,邓永和,谭子尤;双E型加速度传感器硅芯片的优化设计[J];传感技术学报;2003年01期
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【二级引证文献】
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中国硕士学位论文全文数据库 前1条
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