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《半导体技术》 2019年10期
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紫外光和催化剂对GaN电化学特性及CMP速率的影响

于璇  张保国  考政晓  杨盛华  刘旭阳  韦伟  
【摘要】:通过电化学和化学机械抛光(CMP)实验研究了紫外光及催化剂对GaN电化学特性及去除速率的影响。电化学实验结果表明,采用K_2S_2O_8作为氧化剂时GaN的腐蚀电位随氧化剂的浓度增大而降低。在H_2O_2和K_2S_2O_8体系中分别加入ZnO催化剂并进行紫外光照射,其腐蚀电位进一步降低,腐蚀速率加快。CMP结果显示,在H_2O_2和K_2S_2O_8抛光液体系中,紫外光的加入能有效提高GaN的去除速率;加入ZnO催化剂后,GaN的去除速率进一步提高,当H_2O_2体积分数为3%、 ZnO的质量分数为0.05%时,GaN的去除速率达239.7 nm/h;当K_2S_2O_8体积分数0.15 mol/L、ZnO的质量分数0.05%时,GaN的去除速率为428.0 nm/h,此时GaN表面粗糙度为1.18 nm。紫外光照射和ZnO催化剂能够明显提高CMP过程中GaN的去除速率。

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【参考文献】
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【共引文献】
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【二级参考文献】
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