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《半导体技术》 2004年04期
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溅射工艺对晶片碎片的影响

邹建和  
【摘要】:介绍了半导体晶片制造设备溅射机和溅射工艺对晶片碎片的影响,给出了如何减少晶片应力以达到少碎片的目的。
【作者单位】深爱半导体有限公司
【分类号】:TN304.05

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