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《半导体光电》 2008年03期
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Liq/ITO结构表面与界面的AFM和XPS研究

李建丰  孙硕  欧谷平  张福甲  
【摘要】:采用真空蒸发沉积的方法,在覆盖有ITO膜的玻璃基片上沉积一层Liq。利用原子力显微镜(AFM)对制备的Liq/ITO样品表面进行扫描,发现Liq粉末表现为岛状形态,其表面极不平整,存在大量裂缝和空隙,有许多针孔。用X射线光电子能谱(XPS)研究了Liq/ITO紧密接触的表面和界面电子状态。对样品In3d和Sn3d的电子状态分析也证实了ITO表面沉积Liq膜存在裂缝和针孔,这些裂缝和针孔吸附了空气中大量的气体分子;对C1s谱的分析发现,ITO膜表面存在一定的C污染;对N1s谱分析可知,界面处N原子与OI、n和Sn原子有相互作用,这将会影响Liq的发光颜色。

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