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《兵器材料科学与工程》 2000年02期
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镀液pH值对化学镀Co-Ni-P合金镀层结构的影响

宣天鹏  卑多慧  
【摘要】:用 PHS- ZC酸度计、TG32 8A电光分析天平、ASM- SX电子探针、H- 80 0透射电镜和Dmax/ RB旋转阳极 X射线衍射仪测定和分析了化学镀 Co- Ni- P合金镀液的 p H值、镀层的沉积速度、成分和结构。结果表明 ,镀液的 p H值对镀层结构影响的实质是改变了镀层的化学成分 ,尤其是磷含量。p H值越低 ,沉积速度越慢 ,镀层的钴含量越低、镍和磷的含量越高 ,越容易形成非晶态镀层。随 p H值升高 ,镀层的晶化趋势越大 ,并向微晶和晶态转化。
【作者单位】合肥工业大学材料系 合肥工业大学材料系
【分类号】:TQ153.2

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【引证文献】
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1 曹晶晶;烧结NdFeB永磁材料化学镀Ni-Co-P合金防护层研究[D];河南理工大学;2010年
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7 庄大明,张弓,刘家浚;功能薄膜的研究现状与应用前景[J];中国表面工程;2001年04期
8 卢亚辉,黄燕滨,时小军;化学镀非晶态Ni-P镀层孔隙率及其结构研究[J];中国表面工程;2002年03期
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1 都有为;;纳米磁性材料及其应用[A];纳米材料和技术应用进展——全国第二届纳米材料和技术应用会议论文集(上卷)[C];2001年
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4 朱祖芳;镁合金表面处理技术日渐成熟[N];中国有色金属报;2006年
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