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《兵器材料科学与工程》 1999年01期
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电沉积过程对Fe-0.5Ni合金基体Au-Rh配套镀层龟裂的影响

马胜利  井晓天  葛利玲  卢正欣  
【摘要】:研究了镀铑液组成浓度和Au-Rh配套镀工艺参量对龟裂的影响规律。结果表 明在一定范围,随镀铑液浓度降低,可获得晶粒细小致密又无龟裂的优良Au-Rh配套镀层。 而工艺参量中,镀厚金时间、镀铑的阴极电流密度和镀铑时间对镀层龟裂的产生也有一定影 响。通过工艺参量的合理取值,可以抑制龟裂的萌生和扩展。
【作者单位】西安交通大学 西安理工大学 西安理工大学 西安理工大学
【分类号】:TQ153.2

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