| | | | | 气流与化学激光的增益饱和 | | | 高智 | | | 本文提出气流与化学激光的增益饱和理论,理论对特征时间比τ/τ_c的所有可能的数值范围均适用,这里τ指流动特征时间(即气流通过激光作用区所需要之时间),τ_c指碰撞弛豫特征时间。阐明并分析了对流和反转数密度“源流”的饱和效应,得到了增益系数之普遍关系式以及一些新的增益饱和规律。本理论在τ/τ_c《1条件下的结果与近来超声速扩散HF化学激光增益饱和的试验结果相符合。气体介质无宏观运动时的熟知增益饱和理论是本理论在τ/τ_c→∞条件下的特例;气流激光的已有增益饱和理论则是本理论在τ/τ_c》1条件下的特例。
【作者单位】：中国科学院力学研究所 北京
【DOI】：cnki:ISSN:1006-9232.0.1984-11-007
【正文快照】：
一、引言 对于气体增益介质与激光辐射相互作用现象的研究,谱线加宽和增益饱和是极其重要的问题.气体介质无宏观运动时,有关上述问题的理论和试验研究的结果早已是教科书的内容(参见文献LZ]);气体介质具有宏观运动时的情况比较复杂,正如文献[3一6]指出的,气体无宏观运动的研究 | | | | | |  推荐 下载CAJ全文  下载PDF全文 | | | CAJViewer7.0阅读器支持所有CNKI文件格式，AdobeReader仅支持PDF格式 |
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